Ръководство за лабораторни упражнения по микроелектроника 2013
Сумата се прибавя директно в кошницата
5.25 €
.
За повече информация: order@kopiebg.com
СЪДЪРЖАНИЕ
ВЪВЕДЕНИЕ ................................................................3
1. КОНТРОЛ НА ПОЛУПРОВОДНИКОВИ ПЛАСТИНИ И
ИЗМЕРВАНЕ НА НЯКОИ ОСНОВНИ ПАРАМЕТРИ. 5
2. НАНАСЯНЕ НА ДИЕЛЕКТРИЧНИ ПОКРИТИЯ И КОНТРОЛ НА
ПАРАМЕТРИТЕ ИМ Н
3. ФОТОЛИТОГРАФСКИ ПРОЦЕСИ И ФОТОШАБЛОНИ ПРИ
КОНСТРУИРАНЕТО НА ПОЛУПРОВОДНИКОВИ ПРИБОРИ 17
4. СКРАЙБИРАНЕ НА ПОЛУПРОВОДНИКОВИ ПЛАСТИНИ,
МОНТАЖ НА ЧИП И НА ИЗВОДИ. КОРПУСИ 23
5. СОНДОВ КОНТРОЛ И МАРКИРАНЕ НА НЕЗАТВОРЕНИ
СТРУКТУРИ 31
6. ТОПОЛОГИЧНО ПРОЕКТИРАНЕ НА БИПОЛЯРНИ
ПОЛУПРОВОДНИКОВИ ПРИБОРИ 35
7. ПРОЕКТИРАНЕ НА БИПОЛЯРНИ ИНТЕГРАЛНИ СХЕМИ С ИЗПОЛЗВАНЕ НА БИПОЛЯРЕН БАЗОВ МАТРИЧЕН КРИСТАЛ .51
8. ПРОЕКТИРАНЕ НА СМОБ ИНТЕГРАЛНИ СХЕМИ НА ОСНОВАТА
НА СМОБ БАЗОВИ МАТРИЧНИ КРИСТАЛИ 60
9. ПРОЕКТИРАНЕ И ИЗСЛЕДВАНЕ НА ЕЛЕМЕНТИ ОТ
МУЛТИЧИПНИ МОДУЛИ 74
10. ИЗБОР НА ОПТИМАЛЕН ТЕХНОЛОГИЧЕН ВАРИАНТ И
МАТЕРИАЛИ ПРИ ПРОЕКТИРАНЕ НА МСМ И ХИС 90
ЛИТЕРАТУРА .-110
.
